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Présentation des produits Structure fonctionnelle Spécifications techniques Téléchargements
Machine de réparation LCVD des masques LD14

Présentation des produits

La machine de réparation LCVD des masques réalise la réparation des défauts sur les masques principalement en utilisant la technologie de dépôt en phase vapeur par procédé chimique induit par laser (en anglais : Laser chemical vapor deposition, LCVD). La série LD14 de SEMISHARE, avec une large gamme d'épaisseurs de dépôt, une grande précision de réparation et une précision du laser au niveau du micron, peut traiter efficacement les masques avec des pas extrêmement petits et permet d'offrir des solutions de réparation de haute précision et à faible coût pour les défauts des masques de grande valeur, réduisant davantage les coûts de production et d'exploitation pour les entreprises.

Informations de base

Numéro de produit LD14 Environnement de travail Enclosed
Besoins en énergie AC 220V ±5% 50Hz Mode de contrôle Full-automatic
Dimensions du produit Customizable Poids de l'équipement Customizable

Domaines d'application

Elle peut être utilisée pour combler les parties manquantes ou réparer les motifs. Cette technologie est généralement utilisée pour résoudre les problèmes tels que les circuits ouverts et les courts-circuits.

Caractéristiques techniques

Machine de réparation LCVD des masques LD14

● Pour les produits de différentes épaisseurs et de grandes portées, aucun réglage manuel n'est nécessaire lors du changement de produits ; la machine peut s'adapter automatiquement au réglage de la hauteur de la tête de dépôt. ● Le système de contrôle de la gestion du dépôt en phase vapeur peut évaporer quantitativement les dépôts, ce qui garantit qu'une utilisation à long terme n'entraîne pas de prolongation des temps de dépôt en raison d'une diminution des taux d'évaporation due à la consommation de matériaux, répondant ainsi aux demandes des clients en matière de stabilité du procédé. ● Le système de traitement et de récupération des gaz d'échappement, équipé de dizaines de couches de filtres à haute température, peut entièrement capturer et séparer les composants nocifs dans les gaz d'échappement, et diriger les gaz d'échappement dans la tuyauterie de gaz d'échappement de l'usine après le refroidissement. ● Elle permet de fournir des produits personnalisés en fonction des besoins du client


Title

Project

Description

Processing time (1 defect/piece, including positioning time)

15 s

Panel size range

5”-14”

Panel thickness

0.1-5mm

Motion resolution

±0.1μm

Repeat positioning accuracy

±1μm

Slit accuracy

≤±1μm

Autofocus objective lens switching center offset

≤±1μm

Deposition parameters

Deposition mode:Scan and Step

Deposition shape: rectangular and circular, length, width, side length or diameter
The actual size of the spot can be adjusted and displayed by software

Step deposition rectangle size range:
3μm*3μm~30μm*30μm, adjustment accuracy 1μm

Deposition edge accuracy

±0.5μm

Deposition thickness

2000 Å ~15000Å adjustable

Maximum total power

3.5KW


AC 220V ±5% 50Hz

UPS

1000VA/500W  3-20 minutes (half load)

Consumables

Compressed air CDA (0.6Mpa, 0~1L/min)

High purity argon Ar (0.6Mpa, 0~5L/min)

High purity Cr(CO)6 (purity higher than 99.8%) High purity W(CO)6 (purity higher than 99.8%) or Mo(CO)6 (purity higher than 99.8%)

Size

1230*1390*2410

Computer configuration

i5-6500CPU, 8GDDR4 memory, 128G solid state drive + 1T mechanical hard disk, 300W industrial-grade power supply, beta version win1064-bit system, PCIeX16, PCIeX4, PCI slot X5, motherboard Gigabit network port X2, serial port X6


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